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v 离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果
v 应用方向：
? 磁阻式随机存取存储器（MRAM）
? 介电薄膜
? III-V族光电子材料刻蚀
? 自旋电子学
? 金属电极和轨道
? 超导体
? 激光端面镀膜
? 高反射（HR）膜
? 防反射（AR）膜
? 环形激光陀螺反射镜
? X射线光学系统
? 红外（IR）传感器
? II-VI族材料
? 通信滤波器
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